我們經營的UV光源大致分為兩種：使用UV燈的UV燈光源和使用UV-LED的UV-LED光源。UV燈光源結構UV燈光源一般由用于點亮燈的燈電源部分、用于使用橢圓鏡聚焦燈光的鏡單元部分、用于調節發射光量的光圈單元部分、快門單元組成控制光發射的開/關以及將光傳播到目標位置的紫外光導。燈電源部分當燈電源啟動時，首先通過點火器在燈電極之間施加高壓，引起介質擊穿。緊接著，使數倍于點燈時的額定電流的電流在電極間流過短時間，從而在電極間形成電流路徑。之后，通過控制燈電流和功率來保持燈的電氣額...

半導體晶圓紫外線（UV）臭氧清洗設備波長185納米、254納米目的清潔/修改行業半導體制造待安裝設備半導體清洗設備UV照射設備用于清洗半導體晶圓。紫外線照射會產生臭氧，去除晶圓表面的有機物。半導體晶圓紫外臭氧清洗設備可用于原型/開發和批量生產。原型機和開發機是半自動的，生產能力低，而量產機是自動化機。UV照射設備采用185nm和254nm汞燈作為光源。當185nm紫外線被氧氣吸收時，產生臭氧（O3）并產生活性氧。這個應用程序用過的解決問題的例子更換晶圓周邊曝光光源，成本降低3...

UV臭氧清洗是通過照射能量比作為污染物的有機化合物的結合能更強的紫外線來分解有機化合物的清洗方法。在大氣（含氧的環境氣體）中，通過紫外線照射產生臭氧（O3）和激發態活性氧（O）。活性氧具有的氧化能力，會立即與未結合的有機化合物發生氧化反應。這會產生簡單的分子，如CO2、H2O和O2，它們從表面蒸發，同時去除（清潔）有機物質。與使用清洗液的濕式清洗不同，UV臭氧清洗可以減少對環境的影響，并且不會像使用放電的等離子清洗那樣對工件造成熱量或靜電損壞，具有以下特點。

步進曝光機是一種使用步進重復方法進行曝光的投影曝光設備。將曝光區域分成幾個小部分并一次性曝光這些區域。曝光完成后，移動到下一個區域并進行另一次曝光。這稱為步進重復方法，因為該區域被移動（步進）并重復曝光（重復）。UV照射設備一般采用超高壓汞燈作為光源。當在晶片或玻璃基板上形成電路時，通過用紫外線照射圖案化的光掩模，將圖案轉移到涂有抗蝕劑的基材上。曝光所需的光線要求均勻度高、角度控制精確、輸出高。為了滿足這個要求，我們使用短弧燈，它是幾千瓦到幾十千瓦的光源，并通過許多光學元件將...

我們將解釋低壓汞燈和高壓汞燈。低壓汞燈低壓汞燈是一種放電燈，為了有效地輻射汞共振線（185nm或254nm），在點亮時汞蒸氣壓被設計為100Pa以下。電弧管主要是棒狀玻璃管，里面填充有Ar（氬）和汞或其汞合金（汞和其他金屬的合金）等稀有氣體。低壓汞燈有兩種類型：一種是直接使用發射的紫外線的燈，另一種是使用熒光粉將紫外線轉換為不同波長的所謂熒光燈。對于直接使用紫外線的應用，185nm和254nm光很強，因此它們用于臭氧發生、殺菌燈、UV固化、光清潔、表面改性等。熒光燈根據熒光粉...

山本鍍金電鍍分析儀不僅適用于各種金屬鍍層的厚度測量，如金、銀、鎳等，還能對電鍍液中的鋅、鎳、鉻等關鍵元素進行定量分析。其操作簡便，數據分析功能強大，廣泛應用于電鍍加工、貴金屬檢測、質量控制等領域，是電鍍行業的重要工具。為了確保山本鍍金電鍍分析儀正常運行和準確性，定期的維護保養至關重要。下面將介紹詳細的定期維護保養方法，希望能夠幫助到您：1、清潔和校準：使用干凈的軟布輕輕擦拭儀器表面和電極，確保沒有污垢或殘留物影響測量準確性。同時，定期校準，確保測量結果的精準性。2、電極保養：...

在基于燈的設備中，燈不能立即打開，因此必須保持點亮狀態。發光和調光需要快門和光圈等機械部件。它們使用消耗品電機和螺線管。燈泡本身是消耗品，但為了防止出現問題，請消耗品也需要定期更換和日常檢查。是。鏡子還用于聚焦和改變從燈徑向發射的光的方向，濾光片也可用于濾除不必要的波長。這些鏡子和濾光片上沉積有一層薄膜，但也會因紫外線而變質。如果照射裝置不再提供所需的紫外線強度，則必須更換這些光學部件。另一方面，LED可以瞬時打開和關閉，并且可以通過輸入電流進行調光，因此它們簡單且元件較少。...

燈型和LED型的UV照射裝置的安全性和危險性差異很大。燈式紫外線照射設備的安全與危險首先，燈型燈沒有很好的光轉換效率，因此在點亮時會產生大量熱量，變得很燙。即使燈泡關閉，也不會立即冷卻，因此從設備中取出燈泡之前，請確保燈泡已充分冷卻，否則有燒傷的危險。此外，燈打開后，紫外線輸出立即不穩定。為了使用具有穩定UV輸出的燈，必須進行考慮，例如以光源裝置輸出的燈穩定性信號作為指導，或者將燈預熱一定時間，直到燈本身達到熱平衡狀態。使用燈式紫外線照射設備時的注意事項此外，紫外線燈是一種充...